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河南大学采购进口设备(2014-08)技术参数公示

更新时间:2014-2-19 所属分类:招标信息---货物招标       关闭 | 打印

河南大学采购进口设备(2014-08)技术参数公示 依照河南省财政厅关于进一步规范政府采购操作执行行为有关问题的通知”豫财办购[2007]20号、财库[2011]130号文件相关规定和政府采购监督管理处具体要求,河南大学采购进口设备(2014-08)在“河南省政府采购网”将招标项目技术参数、功能描述等相关信息进行网上公示。请各潜在供应商在公示期间内对公示的内容是否有倾向性、歧视性、排他性等内容提出意见或建议,所有意见或建议以书面形式于2014年2月26日17:30时前向河南省机电设备国际招标有限公司提出 (加盖单位公章且法人签字),逾期不予受理。地    址:郑州市东明路187号金成大厦B座9楼招标一部联系人:先生电  话:0371-86079192

河南省机电设备国际招标有限公司

                                                      2014年2月19日

技术参数:

序号

仪器名称

技术参数与要求

数  量

1

原子层沉积设备(ALD) 一、设备总体功能: 设备可沉积Al2O3、ZnO、ZnS、CdS、Pt等氧化物、硫化物和金属。并可对薄膜厚度进行原子层厚度的精确控制,可应用于物理学、化学、微电子、光电子、能源、纳米技术等领域。 二、技术指标: 1、腔体:双层腔体结构,并各自配备密封盖。

*1.1真空腔体:直径18英寸圆柱型结构,材质:AISI 316不锈钢。高度>30 cm,预留升级等离子体源、Loadlock预真空室、 质谱仪、QCM扩展功能的接口;内置加热器一套,加热温度25-650℃,控温精度±1℃,并配备温度传感器1个,压力传感器1个(0-1050mbar);真空腔体外温<60℃;配备腔体过热保护装置;真空腔体所有接口采用KF法兰和Viton密封圈密封,腔体漏率<10-6Pa/s。

*1.2反应腔:反应腔直径250 mm,高度:100 mm;材质为AISI 316不锈钢,并经过特殊钝化处理,确保能够沉积Al2O3、ZnO、ZnS、CdS等氧化物、硫化物和金属;反应腔可以容纳最大150 mm (6英寸) 基片1个, 兼容2-4英寸样品,3D基片和多个小基片,反应腔高度>10 cm。反应腔上配备4个独立的前躯体源管路接口;反应腔最高沉积温度为500℃,控制精度±1℃,并配备相应的温度传感器1个;基片加载采用气动基片加载/卸载系统,由电脑自动控制;反应腔体密封盖由气动机械控制密封和真空腔体内压力双重密封。

2、前躯体输运系统:

    *2.1  4路独立的前躯体源管路,分别连接到反应腔的4个独立入口上;每路单独配置BRONKHORST品牌的质量流量计(MFC)、MKS品牌的压力传感器、Swagelok品牌的脉冲阀,N2气或Ar气的载气管路系统连接每一路前驱体源管路;

     *2.2  质量流量计的流量范围为:0-2000 sccm,控制精度<2%;压力传感器测量范围:0-105 mbar,控制精度:0.1 mbar;

     2.3 脉冲阀响应时间为:15 ms,寿命>30,000,000次脉冲;

     2.4 所有连接管路为316 L不锈钢制成,所有管路接头采用VCR金属密封方式密封,材质品牌为Swagelok品牌。

3、前躯体源数量:配备5个前躯体源,分别为:3个常温液态源、1个加热源和1个气体源。

*3.1常温液态源:液态源瓶为AISI 316不锈钢材料,容积为100 cm3,配置手动隔离阀,配备帕尔帖(Peltier)温度控制器1套;脉冲阀响应时间:15 ms, 寿命30,000,000次。

*3.2 所配备的前驱体源能够保证生长ZnO、TiO2、CdS、ZnS、Al:ZnO及金属薄膜的需要。 *3.3加热源:配备温控管路、高温脉冲阀门(源输运管路系统)与热绝缘器。瓶容器为AISI 316不锈钢材料,容积为50 cm3。加热器加热温度范围25-260 ℃,控制精度±1℃。源瓶加热温度范围25-200 ℃,控制精度±1℃,温度传感器2个和1套热绝缘器。脉冲阀响应时间:15 ms,寿命:30,000,000次。 *3.4气体源:包含质量流量计、三通脉冲阀和压力传感器各1个。质量流量计测量范围:0-200 sccm,精度:±1sccm;脉冲阀响应时间:15 ms,寿命:30,000,000次。压力传感器测量范围:0-105 mbar,控制精度:0.1 mbar。 *4、 真空系统:配备国际知名品牌耐腐蚀真空油泵,真空泵抽速为80 m3/h,真空泵极限真空度为0.1Pa。

5、 控制系统:

5.1 触摸屏PC用于ALD反应器的操作,先进的6源ALD控制软件和电子电路;

5.2 操作界面友好,具备程序储存、读取功能,能够输出实验数据,显示24个小时内设备系统各部分参数的时间趋势图,包括各部分质量流量、温度、压强的时间趋势图。

*5.3设备操作系统必须具有以下联动保护功能。

5.4 沉积过程中监测显示每个源管路的脉冲压强,显示脉冲压强与时间关系图,用于监测脉冲稳定性。

5.5 配备紧急制动开关。

*6、 尾气处理系统1套,国产尾气处理系统,用于吸收沉积硫化物残余的H2S气体。

*7、验收标准:沉积氧化铝进行验收。

基片尺寸:6英寸基片

前躯体源:三甲基铝(TMA)和水(H2O)

循环次数:500 cycles

薄膜厚度不均匀性< 1%;

*8、提供沉积ZnS、CdS的工艺参数,提供三甲基铝和二乙基锌各15克。

9、安装和培训:

*9.1免费对货物负责安装、调试、培训。中国境内有固定的维修点,专业的售后服务工程师,保修期内非人为因素损坏不收取零部件及其他费用,并提供终身售后服务。接到用户维修邀请后,24小时内电话响应,若需现场维修,3个工作日到达现场进行维修。

9.2提供系统的操作说明书1套。

9.3培训:培训人数:2-3人,培训时间:3-5个工作日,培训内容:设备原理、操作、维护等。

10、保修:保修期1年,保修期自安装验收之日算起提供1年免费保修期。

11、维修:设备终生维修,保修期过后,供货方承担仪器设备终生维修的责任。接到故障报告后12小时内给予答复并提出明确解决方案。如需派人维修,则在3个工作日内派工程师到现场  解决问题。在完成维修、仪器工作正常后,只收取更换的零配件费用。 三、交货地点:河南大学金明校区指定地点。

四、交货期:合同签订后4个月内。

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2

磁控溅射系统 一、功能描述及系统组成 磁控溅射目前是一种应用十分广泛的薄膜沉积技术,主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积,而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。主机主要由以下几部分构成:镀膜真空腔、真空系统、真空测量系统、系统框架、磁控溅射系统、气路系统、控制系统等。 二、技术规格要求 1、镀膜工艺腔体 *1.1 方箱型304不锈钢腔体,名义尺寸约为350mm宽 x 350mm深 x 610mm高。 *1.2 胶圈密封,铝制前开门设计,方便操作。 *1.3门上配有至少1个方形观察窗,尺寸不小于4英寸X 6英寸,并带有安装衬玻璃的插槽。 1.4 用于安装真空泵、真空计、进样室以及其他仪器的接口,并尽可能配有空余的备用法兰口。配有气动充气阀,可连接高纯氮气。 2、真空泵系统 *2.1前级泵采用抽速不低于6.8 cfm的油封式机械泵,配有前级阀门,品牌为普发。 *2.2主泵采用抽速不低于685 L/S分子泵,可通过操作界面调节分子泵转速,品牌为普发。 *2.3系统的极限压强≤2 x10-7 Torr; 2.4主泵和腔室之间带有三位门阀,具有全开、全闭和半开功能。 *2.5自动抽气控制,带安全互锁功能。 2.6配有前级管路等相应的硬件。 3、真空测量系统 *3.1主真空室配有全量程真空计,测量范围为大气至10-9 Torr,自动量程切换。品牌为kurt J. Lesker *3.2主真空室配有MKS电容式薄膜规,满量程为100 mTorr,用于溅射镀膜时检测工作真空度,测量精度为读数的0.25%。   3.3主泵和前级泵之间配有kurt J. Lesker粗真空计;读数可在系统控制面板上显示。 4、系统框架 *4.1全封闭式系统框架,外形尺寸≧1530 mm宽x 900 mm深x 1910 mm高。   *4.2集成总控电源,在设备框架上安装有紧急停车按钮。    4.3带有脚轮和水平支脚。 5、磁控溅射系统 *5.1 一台Kurt J. Lesker的磁控溅射靶枪,靶材尺寸为2英寸。 *5.2靶枪需要水冷,冷却水和磁钢不能直接接触。 *5.3靶枪具有折弯功能,可以调节靶头与基片之间的溅射角度。 *5.4靶枪带气动控制的靶枪挡板。 *5.5靶枪最低工作压强为2mTorr。 6、溅射靶枪电源配置要求: 一台功率1000W的直流电源,品牌为Kurt J. Lesker 。 7、样品台 *7.1 样品台带电机驱动实现连续旋转,最大转速可达20转/分钟。 *7.2 样品台加热最高温度不低于350℃,PID控温,控温精度+/- 1℃。  *7.3加热方式采用石英灯加热器,并且装有两个热电偶,其中一个热电偶用于安全保护。 *7.4适合基板最大尺寸不小于6英寸,并且有适合不规则碎片样品的夹具。 8、进气系统: 两路质量流量计控制进气,最大流量为100 sccm,控制精度优于±1%。可设定工作气压值,通过电容式薄膜规测量反馈,自动调节进气量,质量流量控制器采用MKS品牌。相应的放气阀和管路。 9、计算机控制系统 *9.1基于Windows 操作系统的Kurt J. Lesker控制系统。 *9.2配有标准的触摸屏和键盘,可通过触摸屏或者键盘进行设备操作。 9.3软件界面布局满足半导体设备的人机界面SEMI E95-0200标准。   9.4可真实显示下列系统参数:真空系统界面;沉积界面;气路界面;运动界面;水冷界面。 *10、水冷系统:系统需要冷却的部件必须水冷,如靶枪、分子泵等,截止阀开关各路冷却水路,并且配有必须的冷却水安全互锁设计,以保护设备。靶枪要有独立的断水保护报警装置。并提供循环冷水机以及相应管件。配备设备需要的主电源接线。提供与磁控溅射镀膜设备相匹配的空气压缩机和相应管件。 11、电源要求:配紧急停车按钮,相应的安全互锁装置。 12、薄膜均匀性检测:4英寸硅片镀制200 nm以上的Mo膜,均匀性不大于+/-5%。从基片中心到基片边缘每隔0.5英寸取一个测量点(去掉5mm边缘),使用台阶仪对每个点测量三次,取平均值,均匀性计算公式:(((最大 – 最小) / 最大) * 100) / 2 = +/- 均匀性%。 *13、配备3块2英寸的Mo(纯度>99.95%)靶材。其规格适用于该磁控溅射设备。 14、技术服务 14.1国际知名厂商,且公司在中国境内的售后服务人员不能少于4人。 14.2供应商在国内销售同类型设备不能少于25台,各型号设备数量不少于40台。 14.3提供详细的用户手册及相关机械、电控等装配图纸。  14.4提供负责售后服务工程联系方式并在人员更换时及时通知用户;提供同型号产品在国内的主要用户名单(若国内无则提供国外最主要的用户名单)。 14.5设备出厂前需提供详细的设备检测报告,包含腔室真空测试报告、加热测试报告、蒸发镀膜测试报告等。 15、安装及保修 15.1 仪器到货后,厂家需在接到用户通知后14个工作日内进行安装调试直至达到验收指标。   15.2 厂家提供至少2名用户管理人员的现场操作使用及基本维护的免费培训。 15.3 保修期为两年。在保修期内,任何由制造商选材和制造不当引起的质量问题,卖家负责免费维修。设备供应商提供终身维修,并保证保修期满后不低于五年的零配件及消耗品的供应。提供主要部件、配件的价格范围,消耗品的价格范围。 三、交货地点:河南大学金明校区指定地点。 四、交货期:合同签订后4个月内。

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3

少子寿命测试仪

一.设备的主要用途、功能及特点

主要应用于半导体/光电/光伏材料(单晶/多晶硅片/硅锭及铜铟镓硒薄膜)的工艺控制及测试手段。通过测量少子寿命,可分析薄膜制备过程引入的缺陷复合及光电导率的变化。仪器主要功能是借助微波光电导衰减法及准稳态光电导法分析半导体材料内表面复合效应等缺陷情况及材料的电学传导性能,进而为判断材料性能优劣和优化实验设计提供科学依据。

二.技术参数及指标(带*者为必须具备指标) 1、测量技术 *1.1设备采用微波探测光电导衰减技术。 *1.2提供稳态和非稳态两种测量模式,应能够测量CIGS、单晶硅、多晶硅等材料少子寿命及光电导率;

1.3在同一测量模式下应能够同时得到少子寿命和光电导率数据。 2、软件 *2.1采用MDPmap软件,有F&E模式(高灵活性的测量参数调整)和操作者模式(快速的标准测量选项)两种模式,参数自动设定;

*2.2 可灵活配置多种选项,实现多功能测试:例如电阻率扫描测量、光致诱导电流LBIC扫描测量、多模式/多注入水平测试等;

*2.3  可打印的输出显示包括了少子寿命、光电导率的扫描图,包括x-y坐标、柱状图和瞬时图;

2.4  软件能够计算整个样品的平均值和标准误差。

2.5 可调用原始数据,样品尺寸、边缘、激光波长和功率等信息均可显示。

*3、有铜铟镓硒材料的实测数据,可提供用户应用实例及反馈信息。

4、激发光源

*4.1 激光激发光源,波长980 nm,激发功率500 ~ 5000 mW,等幅波,单模;

*4.2 激发功率: 550 mW(缺省值),激光光源的激发功率、脉冲时间等可调节。

*5、能真实模拟太阳光强度进行测量,可实现小注入水平测试,能探测到样品的微小损伤和缺陷。

6、测量点:缺省直径0.5 mm,软件控制可调测量点尺寸。

*7、最小样品光斑直径≤0.25 mm。

*8、测量精度。少子寿命、光电导率测量的准确度(3 Sigma)≤ 3%。

*9、测量误差。少子寿命、光电导率测量的重复精度≤ ± 1%。

*10、测量范围。少子寿命测量范围可达到0.1us~100ms。 11、可测量p型和n型半导体。 12、样品尺寸:5×5 mm2~210×210 mm2。 *13、电阻率测量范围:0.1~103 Ohm·cm。 14、电源要求:110/230 V, 50/60 Hz, 3 A; 15、控制及数据处理:惠普PC机控制,配置:CPU≥ 3.4GHz, 内存≥4 GB,硬盘≥500G,Windows 7操作系统,USB数据传送。

三.仪器配置 1、样品台,手动更换、装载样品 2、带振荡器、混频器的微波分光计 3、带微波探测器的测量头 4、激光激发光源,波长980 nm,激发功率500 ~ 5000 mW,等幅波,单模 5、高分辨率瞬态分析 6、光学、透镜系统 7、基于微控制器的数据评估 8、电源:110/230 V, 50/60 Hz, 3 A 四.软件与数据库: 升级版MDPmap测量软件,包括的评估选项:

1、少子寿命(绝对值)

2、光电导率(相对值)

3、统计数据的柱状图

4、测量参数的数据库 五.技术服务

1、仪器到货后, 买方在收到货物后一周内电话或者邮件方式通知卖方,卖方在得到买方通知五个工作日内, 将派技术人员到买方所在地安装、调试仪器.

2、厂家提供至少2名用户管理人员的现场操作使用及基本维护的免费培训。

3、仪器保修期为一年,保修期从验收合格之日起开始计算。接到用户维修邀请后,24小时内电话响应,若需现场维修,3个工作日现场响应。

4、保修期内,卖方负责免费更换有故障的零、部件(消耗品,光学元件等除外)。但对于买方自己操作维护不当或不可抗拒的自然灾害所造成的损坏,卖方可收取一定的维修费用。

5、保修期外,卖方提供免费的不定期回访,在设备出现故障后若可以现场解决问题,则不收取任何费用;若需要购置配件做维修,按成本价格收取零配件费用,免收人工费、差旅费及工时费。

. 目的港:包装适合长途运输、包装材料必须符合中国有关动植物检验检疫规证明文件齐全,符合中国海关的入关要求。运输方式:空运到中国郑州机场。交货地点:河南大学金明校区指定地点。 七.交货时间:合同生效后3个月内。

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